|
Eindproducten - CD-rom RW 
|
| CD-RW schijf
|
Toegepaste technologie:
| | PVD | | | Toegepaste basis-techniek:
| | Sputteren | | | Toegepaste techniek:
| | Magnetron sputteren | | | Materiaal Ondergrond:
| | Kunststof (Polycarbonaat) | | | Materiaal v.d. laag:
| | ZnS-SiO2 , InSbAgTe en Al(Ti) | | | Doel van de behandeling:
| | Het verkrijgen van een herschrijfbare CD. Hierbij wordt op een dragermateriaal van kunststof een pakket van 5 lagen afgezet waarvan 4 d.m.v. Magnetron Sputteren: een diëlektrisch Zinksulfide-Siliciumoxide mengsel als isoleerlaag en als anti-reflectielaag., een Indium-Antimoon-Zilver-Telluur-legering als actieve laag die na activering van fase verandert (kristallijn < > amorf), daarna nogmaals een Zinksulfide-Siliciumoxide laag en tenslotte een Aluminium-legering die de functie van warmte-opname heeft maar ook als reflecterende laag dienst doet.
| | | Keuze van de techniek:
| | De warmtegevoeligheid van het Polycarbonaat substraat vereist het toepassen van een depositietechniek bij lage temperatuur zoals Magnetron Sputteren, waarmee op vlakke substraten dunne uniforme lagen kunnen worden aangebracht op industriële schaal. Een tweede reden om voor Magnetron Sputteren te kiezen is dat deze techniek de grootste depositiesnelheid van alle sputtertechnieken vertoont.
| |
