|
Eindproducten - Actieve LCD monitor 
|
| Actieve LCD monitor
|
Toegepaste technologie:
| | CVD
| | | Toegepaste basis-techniek:
| | Plasma CVD
| | | Toegepaste techniek:
| | RF PECVD
| | | Materiaal Ondergrond:
| | Glas
| | | Materiaal v.d. laag:
| | Siliciumnitride en amorf Silicium
| | | Doel van de behandeling:
| | Het doel van de behandeling is het aanbrengen van een isolerende Siliciumnitride laag en een actieve laag van amorf Silicium op glasplaten bij de fabricage van een LCD monitor.
| | | Keuze van de techniek:
| | Met PECVD kunnen op grote vlakke substraten uniform lagen worden aangebracht bij relatief lage temperaturen (300 °C)
| |
